2015年中国ALD技术交流与学术研讨会在杭召开
- 分类:公司新闻
- 发布时间:2015-08-25
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【概要描述】嘉兴科民电子设备技术有限公司是国内领先的原子层沉积设备(ALD)及解决方案供应商,我司联合复旦大学、中科院微电子所、浙江大学以及ALD相关耗材、服务厂商,将于8月27日~29日在杭州蓝天清水湾国际大酒店召开“2015年中国ALD技术交流与学术研讨会”。会议邀请了原子层沉积技术领域顶尖的研究者和专家,也包含国际国内最优秀的设备及耗材供应商,会议期间我司将全面展示公司产品并为您提供丰富、专业的ALD镀膜解决方案,亦诚邀您来我司位于浙江嘉兴的生产、研发基地参观考察。
2015年中国ALD技术交流与学术研讨会在杭召开
【概要描述】嘉兴科民电子设备技术有限公司是国内领先的原子层沉积设备(ALD)及解决方案供应商,我司联合复旦大学、中科院微电子所、浙江大学以及ALD相关耗材、服务厂商,将于8月27日~29日在杭州蓝天清水湾国际大酒店召开“2015年中国ALD技术交流与学术研讨会”。会议邀请了原子层沉积技术领域顶尖的研究者和专家,也包含国际国内最优秀的设备及耗材供应商,会议期间我司将全面展示公司产品并为您提供丰富、专业的ALD镀膜解决方案,亦诚邀您来我司位于浙江嘉兴的生产、研发基地参观考察。
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嘉兴科民电子设备技术有限公司是国内领先的原子层沉积设备(ALD)及解决方案供应商,我司联合复旦大学、中科院微电子所、浙江大学以及ALD相关耗材、服务厂商,将于8月27日~29日在杭州蓝天清水湾国际大酒店召开“2015年中国ALD技术交流与学术研讨会”。会议邀请了原子层沉积技术领域顶尖的研究者和专家,也包含国际国内最优秀的设备及耗材供应商,会议期间我司将全面展示公司产品并为您提供丰富、专业的ALD镀膜解决方案,亦诚邀您来我司位于浙江嘉兴的生产、研发基地参观考察。
在此,热忱邀请各位老师届时莅临,共商ALD技术发展大计、畅谈ALD应用前景!
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