COMPANY PROFILE
嘉兴科民电子设备技术有限公司
公司介绍
海外微电子设备制造团队与中科院微电子所8室专家共同成立
一家专业的原子层沉积设备制造商
4000余平方米的研发及生产基地
30多人的研发及制造团队。
生产场地
符合半导体行业6S管理规定的生产场地,标准化生产
严格的设备工艺验证,保证每台设备的质量
发展与规划
2019年
2018年
2017年
2016年
2013年
2012年
2010年
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我们的优势
厂区独立的加工检测能力
生产场地具有进口晶圆测温仪(用于晶圆表面实际温度的测量和校准)、进口真空检漏仪(用于保障整个沉积系统的真空漏率达标)、swgaelok原装进口管路连接器(保障前驱体源输送的可靠性)
产线验证
从2015年至2019年,公司设备为大型半导体/MEMS生产企业通过产线验证的ALD机型,稳定工作3年以上
研发支持
中科院微电子所具有千级净化级别700㎡、百级净化级别50㎡,并能方便的进行薄膜性能测试
ALD技术
1970s-第一阶段
ALD的发明
Suntola提出ALD概念并逐渐完善
1980s-1990s-第二阶段
ALD的孕育与积累
ALD开始应用于TFT等领域独特的自限制沉积模式优势初显
2000s~至今-第三阶段
ALD大规模应用与爆发
ALD开始应用于intel处理器的high-k层并开始大规模应用
应用领域不断拓展
能源领域:太阳能电池背面钝化、光伏活性层、防腐镀膜、超亲水/疏水涂层、防尘涂层、锂离子电池材料增效
微电子和微机电领域:存储器件活性层、OLED封装、纳米结构器件、微部件的防腐蚀和抗磨损
光学应用:反射涂层和増透涂层,透镜保护、光栅器件、曲面镀膜
其他:膜结构和多孔结构催化活性层、高效贵金属活性层
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科民市场部
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