厂区独立的加工检测能力

生产场地具有进口晶圆测温仪（用于晶圆表面实际温度的测量和校准）、进口真空检漏仪（用于保障整个沉积系统的真空漏率达标）、swgaelok原装进口管路连接器（保障前驱体源输送的可靠性）

产线验证

从2015年至2019年，公司设备为大型半导体/MEMS生产企业通过产线验证的ALD机型，稳定工作3年以上

研发支持

中科院微电子所具有千级净化级别700㎡、百级净化级别50㎡，并能方便的进行薄膜性能测试

1970s-第一阶段

ALD的发明
Suntola提出ALD概念并逐渐完善

1980s-1990s-第二阶段

ALD的孕育与积累
ALD开始应用于TFT等领域独特的自限制沉积模式优势初显

2000s~至今-第三阶段

ALD大规模应用与爆发
ALD开始应用于intel处理器的high-k层并开始大规模应用

应用领域不断拓展

能源领域：太阳能电池背面钝化、光伏活性层、防腐镀膜、超亲水/疏水涂层、防尘涂层、锂离子电池材料增效
微电子和微机电领域：存储器件活性层、OLED封装、纳米结构器件、微部件的防腐蚀和抗磨损
光学应用：反射涂层和増透涂层，透镜保护、光栅器件、曲面镀膜
其他：膜结构和多孔结构催化活性层、高效贵金属活性层