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多腔室集束型原子层沉积系统ClusterALD
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产品描述
参数
嘉兴科民电子设备技术有限公司的ClusterALD-DSL型多腔室集束型原子层沉积系统是专门为集成电路前端制造先进工艺开发的薄膜沉积设备。系统采用国际先进成熟的设计思想和制造技术，充分考虑使用化学前驱体的安全性，设计与生产遵循世界半导体行业的相关的安全标准SEMI-S2，S8标准，以优良的品质，极高的可靠性，超长的使用寿命受到客户的认可，产品性能和售后服务得到用户一致好评。设备标配2-4个工艺腔室，搭载中央机械手，最大晶圆尺寸为12英寸。我司可提供满足要求的前驱体源名称、配置相应的前驱体源管路和装置，并在交付时提供相应材料的工艺菜单。
欲了解ClusterALD-DSL的更多技术规格，请联系我公司销售部门获取。
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